一種康普頓技術與編碼掩膜成像技術相結合下的GAMMA相機

GAMMA相機能夠快速準確地定位放射源，識別放射性核素種類，估算環境劑量當量，從而達到快速、準確表征現場輻射環境的目的，可服務于輻射防護，風險評估，劑量監控，反恐安保等各種目的和應用。

編碼掩膜孔徑成像技術及康普頓成像技術二合一

康普頓成像

康普頓成像技術是基于康普頓散射來確定放射源位置的技術。如果入射的伽瑪射線經過康普頓散射，然后在CZT檢測器內進行光電吸收，則康普頓散射公式與檢測到的光子的3D位置和能量結合可以用來確定入射光子與散射光子之間的散射角。該散射角用于創建潛在源位置的“環”。隨著收集到更多的光子，“環”將重疊，并*終會聚在光源的方向上。康普頓成像用于大于約250 keV的伽馬射線，因為較低能級的伽馬射線僅傾向于通過光電吸收相互作用，而不會康普頓散射。

編碼掩膜孔徑成像

編碼掩膜孔徑成像（CAI）是一種技術，通過對僅在CZT晶體中通過光電吸收相互作用的伽瑪射線進行成像，從而對康普頓成像可能會漏掉的伽瑪射線進行成像。編碼孔徑成像使用由鎢薄片制成的掩模，鎢是常用的伽瑪射線防護罩。通過在輻射源和檢測器之間放置一個掩模，可以*地確定潛在的輻射源位置-如果發生伽馬射線相互作用，則它必須穿過掩模中的一個孔。通過一次交互，*形成了掩模的圖案，但是隨著檢測到更多的光子，潛在的位置*終將與光源的位置重疊。為了正確定位源，需要大量數據。編碼孔徑成像可用于高達約1 MeV的伽馬射線。在較高能量下，鎢掩模將無法有效屏蔽檢測器，并且圖像可能會變得太嘈雜而無法定位放射源。編碼孔徑成像的另一個限制是，與康普頓成像不同，它與康普頓成像的全向視野相比，只能在有限的視野（我們的CAI圖像上的紅色區域）上工作。

在這兩種情況下，兩種成像技術一體化，真正實現無遺漏、全視角、高分辨率的GAMMA相機成像。